이 프로세스를 사용한 초기의 경험은 DOW CORNING사에 의한 기술을 받아서 한 것인데
CABLE 절연체로서 적합치가 않아서 대단히 실망적이었다.
이 프로세스의 미비점을 개선시키기 위하여 화학적인 측면에서의 다른 여러 배합들이 시험되었는데, 특히 GRAFTING 반응을
개시 시키는데 필요한 과산화물의 종류와 농도가 바람직하지 않는 PEROXIDE 가교 (C - C BONDS)의 2차 반응을
억제하기 위하여 여러가지로 시도되었다.
현재 SILANE을 사용한 가교방법은 4가지가 있는데 다음과 같다.
1. SIOPLAS - 원래 DOW CORNING사의 기술로 개발된 2단계 공법.
2. MONOSIL- SWIS의 기계 제조 회사인 MAILLEFER사에 의하여 개발된 1단계 공법
3. SILOXAN - 세계유수의 CABLE MAKER인 KABELMETAL에 의하여 개발된 병렬적 1단계 공법으로
현재
PLEXCHEM TECHNOLOGIES LTD사의 LICENCE하에서 생산.
4. Dry silane process - Monosil process를 더욱 발전시킨 것으로 silane등 가교제들을
다공질 폴리머에
고농도(40%-80%)로 함침시켜 마스터 베치화하여 사용.
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